De MiniLab is vanaf het begin als multi-technique systeem ontworpen. Hierdoor is het systeem eenvoudig aan te passen aan systeemconfiguraties die voor vele grotere coating systemen nagenoeg onmogelijk zijn. Het is belangrijk te weten is dat de MiniLab "cost effective" is. Door het modulaire ontwerp is het eenvoudig in een later stadium een uitbreiding te doen wanneer dit nodig is en wanneer het budget het toe laat. In tegenstelling tot andere OEM designs, accepteert de MiniLab zeer veel industriestandaard componenten. Tot op vandaag zijn bijvoorbeeld reeds maar liefst 6 e-beam sources gekwalificeerd in het systeem.
De standaard vacuümkamer is volledig van rvs met de deur aan de voorzijde. De kamer heeft 25x base ports voor plaatsing van sputter- en opdampbronnen en andere (tooling) accessoires. Het is eenvoudig de bronnen en tooling van base ports te wisselen om zodoende snelle aanpassingen in de systeemconfiguratie door te voeren. Twee zijpoorten bieden ruimte voor: front side sample heating, fast actions shutters, thin film heads, gas admission en optische toegang tot het substraat. Drie poorten in de bovenwand van de kamer bieden ruimte aan: sample rotation/positioning, sample heating, thermocouple & sample bias. Het kijkvenster (met optionele shutter) in de deur biedt optische toegang tot de configuratie en substra(a)t(en) in de kamer. De grote (pomp)poort in de achterwand zorgt voor snelle afpomptijden. Naast deze standaard kamer bieden we een grotere D-shaped kamer benodigd voor e-beam configuraties of andere configuraties die meer ruimte vragen. (of sputter-down configuraties)
De MiniLab is toepasbaar voor true multi-technique, multi-layer deposition processen, waardoor het concept uitstekend geschikt is voor productie op kleine schaal en R&D prototyping. Om u een idee te geven; een volledig geconfigureerd systeem bevat bijvoorbeeld de volgende technieken:
De MiniLab is uit te rusten met een single substrate/wafer sample stage met een diameter van ca 160mm. Deze stage kan kleine substraten dragen tot een single 6" wafer. Voor grotere substraten dan 6" of multi substrate processen is het systeem te voorzien van een sample stage met een diameter van maar liefst 370mm. Hiermee concurreert de MiniLab met designs van grote OEM'ers tegen een fractie van de prijs. Het verwisselen van de substraten is eenvoudig door de quick release sample plate. Opties voor de sample stage zijn; rotation, hot or cold stage, bias, z-shift.
Standaard vacuumpomp systeem is een 250, 360 of 520l/s turbomoleculairpomp in combinatie met een dual stage rotary vane voorpomp. Andere pomp packages zijn leverbaar zoals bijvoorbeeld een cryo of additionele waterpomp, ook in combinatie met olievrije, droge, voorpomp opties.
De Minilab biedt drie niveau's opties voor system control & operation:
- handmatig bediend systeem met optionele thin film monitoring
- geautomatiseerde procescontrole door geavanceerde thin film controller met codep optie
- nagenoeg volledige automatisering door toepassing van PC/PLC controle en HMI.
Door gebruik te maken van de meest moderne thin film monitoring en control systemen, is de gebruiker is staat eenvoudig multilayer runs in te stellen en deze tijdens het proces stap voor stap te volgen. Ook datalogging is eenvoudig mogelijk voor off-line analyse. Belangrijk om te weten is dat een volledig of half geautomatiseerd systeem nog altijd volledig handmatig is te bedienen zonder PC.
|
home 
